研磨拋光中工作劃痕的定義

劃痕是指在工件被加工表面上隨機(jī)分布的長短不一的線狀缺損，是工件在加工過程中由于磨粒壓入工件過深產(chǎn)生的表面缺陷，是影響工件表面質(zhì)量的主要因素之一。在超精密研磨加工過...

研磨中劃痕減免方法

前面我們分析工件被加工表面劃痕產(chǎn)生的原因，針對(duì)不同的情況，在實(shí)際研磨過程中，我們通過相應(yīng)的手段均可以最大化的避免其發(fā)生。研磨前，通過對(duì)冷卻液進(jìn)行過濾，去除其中的硬...

拋光盤的平面精度對(duì)平面拋光精度的影響

拋光盤的平面精度與其精度的保持性決定了平面拋光的精度。因此為了使工件獲得高精度的加工平面，必須使用高精度平面的拋光盤。在拋光高精度面積較小的平面加工件時(shí)，要使用彈...

油性研磨液和水性研磨液在平面研磨機(jī)上的應(yīng)用

研磨液有油性和水性之分，兩者都在平面研磨機(jī)上有較大的應(yīng)用范圍。但是兩者是存在一些區(qū)別的，最本質(zhì)的區(qū)別就是油性研磨液配料用的是油，也就是成分中大部分輔助材料是油;而水...

拋光液作用和濃度對(duì)工件的影響

拋光液對(duì)拋光機(jī)的作用 可能很多從事化工行業(yè)的朋友都知道拋光機(jī)的構(gòu)成及運(yùn)用，在運(yùn)用的過程中一些輔助材料的使用在生產(chǎn)提供很大的方便，使機(jī)器能高效率的運(yùn)轉(zhuǎn)，提高生產(chǎn)的效率...

吸附墊的應(yīng)用

吸附墊，主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料，寶石晶體片，硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光，屬于電子材料 的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液...

拋光墊性能對(duì)拋光液的影響

拋光墊將拋光液中的磨粒輸送到工件表面，使突起的部分平坦化，是輸送拋光液的關(guān)鍵部件。拋光墊的剪切模量及彈性模量、粗糙度和可壓縮性等機(jī)械特性對(duì)工件的平整度及去除率有著...

研磨發(fā)展的意義

研磨是用磨具中的磨料作用于被加工工件表面，進(jìn)行微量加工的過程。人類采用研磨加工的歷史悠久，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。古代，研磨用于擦光寶石、銅鏡等；近代，研磨作為拋光的前道工...